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關(guān)于高二化學(xué)必考知識(shí)點(diǎn)

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高二變化的大背景,便是文理分科(或七選三)了,在對(duì)各個(gè)學(xué)科都有了初步了解后,我們需要對(duì)自己未來(lái)的發(fā)展科目有所選擇、有所側(cè)重。這可謂是學(xué)生們第一次完全自己把握、風(fēng)險(xiǎn)未知的主動(dòng)選擇。下面小編為大家?guī)?lái)關(guān)于高二化學(xué)必考知識(shí)點(diǎn),希望對(duì)您有所幫助!

關(guān)于高二化學(xué)必考知識(shí)點(diǎn)

高二化學(xué)必考知識(shí)點(diǎn)

1、親電取代反應(yīng)

芳香烴圖冊(cè)主要包含五個(gè)方面:鹵代:與鹵素及鐵粉或相應(yīng)的三鹵化鐵存在的條件下,可以發(fā)生苯環(huán)上的H被取代的反應(yīng)。鹵素的反應(yīng)活性為:F>Cl>Br>I不同的苯的衍生物發(fā)生的活性是:烷基苯>苯>苯環(huán)上有吸電子基的衍生物。

烷基苯發(fā)生鹵代的時(shí)候,如果是上述催化劑,可發(fā)生苯環(huán)上H取代的反應(yīng);如在光照條件下,可發(fā)生側(cè)鏈上的H被取代的反應(yīng)。

應(yīng)用:鑒別。(溴水或溴的四氯化碳溶液)如:鑒別:苯、己烷、苯乙烯。(答案:step1:溴水;step2:溴水、Fe粉)。

硝化:與濃硫酸及濃_(混酸)存在的條件下,在水浴溫度為55攝氏度至60攝氏度范圍內(nèi),可向苯環(huán)上引入硝基,生成硝基苯。不同化合物發(fā)生硝化的速度同上。

磺化:與濃硫酸發(fā)生的反應(yīng),可向苯環(huán)引入磺酸基。該反應(yīng)是個(gè)可逆的反應(yīng)。在酸性水溶液中,磺酸基可脫離,故可用于基團(tuán)的保護(hù)。烷基苯的磺化產(chǎn)物隨溫度變化:高溫時(shí)主要得到對(duì)位的產(chǎn)物,低溫時(shí)主要得到鄰位的產(chǎn)物。

F-C烷基化:條件是無(wú)水AlX3等Lewis酸存在的情況下,苯及衍生物可與RX、烯烴、醇發(fā)生烷基化反應(yīng),向苯環(huán)中引入烷基。這是個(gè)可逆反應(yīng),常生成多元取代物,并且在反應(yīng)的過(guò)程中會(huì)發(fā)生C正離子的重排,常常得不到需要的產(chǎn)物。該反應(yīng)當(dāng)苯環(huán)上連接有吸電子基團(tuán)時(shí)不能進(jìn)行。如:由苯合成甲苯、乙苯、異丙苯。

F-C?;簵l件同上。苯及衍生物可與RCOX、酸酐等發(fā)生反應(yīng),將RCO-基團(tuán)引入苯環(huán)上。此反應(yīng)不會(huì)重排,但苯環(huán)上連接有吸電子基團(tuán)時(shí)也不能發(fā)生。如:苯合成正丙苯、苯乙_。

親電取代反應(yīng)活性小結(jié):連接給電子基的苯取代物反應(yīng)速度大于苯,且連接的給電子基越多,活性越大;相反,連接吸電子基的苯取代物反應(yīng)速度小于苯,且連接的吸電子基越多,活性越小。

2、加成反應(yīng)

與H2:在催化劑Pt、Pd、Ni等存在條件下,可與氫氣發(fā)生加成反應(yīng),最終生成環(huán)己烷。與Cl2:在光照條件下,可發(fā)生自由基加成反應(yīng),最終生成六六六。

3、氧化反應(yīng)

苯本身難于氧化。但是和苯環(huán)相鄰碳上有氫原子的烴的同系物,無(wú)論R-的碳鏈長(zhǎng)短,則可在高錳酸鉀酸性條件下氧化,一般都生成苯甲酸。而沒(méi)有α-H的苯衍生物則難以氧化。該反應(yīng)用于合成羧酸,或者鑒別。現(xiàn)象:高錳酸鉀溶液的紫紅色褪去。

4、定位效應(yīng)

兩類(lèi)定位基鄰、對(duì)位定位基,又稱(chēng)為第一類(lèi)定位基,包含:所有的給電子基和鹵素。它們使新引入的基團(tuán)進(jìn)入到它們的鄰位和對(duì)位。給電子基使苯環(huán)活化,而X2則使苯環(huán)鈍化。

間位定位基,又稱(chēng)為第二類(lèi)定位基,包含:除了鹵素以外的所有吸電子基。它們使新引入的基團(tuán)進(jìn)入到它們的間位。它們都使苯環(huán)鈍化。

二取代苯的定位規(guī)則:原有兩取代基定位作用一致,進(jìn)入共同定位的位置。如間氯甲苯等。原有兩取代基定位作用不一致,有兩種情況:兩取代基屬于同類(lèi),則由定位效應(yīng)強(qiáng)的決定;若兩取代基屬于不同類(lèi)時(shí),則由第一類(lèi)定位基決定。

高二化學(xué)重要知識(shí)點(diǎn)

1、電解的原理

(1)電解的概念:

在直流電作用下,電解質(zhì)在兩上電極上分別發(fā)生氧化反應(yīng)和還原反應(yīng)的過(guò)程叫做電解。電能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能的裝置叫做電解池。

(2)電極反應(yīng):以電解熔融的NaCl為例:

陽(yáng)極:與電源正極相連的電極稱(chēng)為陽(yáng)極,陽(yáng)極發(fā)生氧化反應(yīng):2Cl-→Cl2↑+2e-。

陰極:與電源負(fù)極相連的電極稱(chēng)為陰極,陰極發(fā)生還原反應(yīng):Na++e-→Na。

總方程式:2NaCl(熔)2Na+Cl2↑

2、電解原理的應(yīng)用

(1)電解食鹽水制備燒堿、氯氣和氫氣。

陽(yáng)極:2Cl-→Cl2+2e-

陰極:2H++e-→H2↑

總反應(yīng):2NaCl+2H2O2NaOH+H2↑+Cl2↑

(2)銅的電解精煉。

粗銅(含Zn、Ni、Fe、Ag、Au、Pt)為陽(yáng)極,精銅為陰極,CuSO4溶液為電解質(zhì)溶液。

陽(yáng)極反應(yīng):Cu→Cu2++2e-,還發(fā)生幾個(gè)副反應(yīng)

Zn→Zn2++2e-;Ni→Ni2++2e-

Fe→Fe2++2e-

Au、Ag、Pt等不反應(yīng),沉積在電解池底部形成陽(yáng)極泥。

陰極反應(yīng):Cu2++2e-→Cu

(3)電鍍:以鐵表面鍍銅為例

待鍍金屬Fe為陰極,鍍層金屬Cu為陽(yáng)極,CuSO4溶液為電解質(zhì)溶液。

陽(yáng)極反應(yīng):Cu→Cu2++2e-

陰極反應(yīng):Cu2++2e-→Cu

高二化學(xué)復(fù)習(xí)知識(shí)點(diǎn)

1、沉淀溶解平衡與溶度積

(1)概念

當(dāng)固體溶于水時(shí),固體溶于水的速率和離子結(jié)合為固體的速率相等時(shí),固體的溶解與沉淀的生成達(dá)到平衡狀態(tài),稱(chēng)為沉淀溶解平衡。其平衡常數(shù)叫做溶度積常數(shù),簡(jiǎn)稱(chēng)溶度積,用Ksp表示。

(2)溶度積Ksp的特點(diǎn)

Ksp只與難溶電解質(zhì)的性質(zhì)和溫度有關(guān),與沉淀的量無(wú)關(guān),且溶液中離子濃度的變化能引起平衡移動(dòng),但并不改變?nèi)芏确e。

Ksp反映了難溶電解質(zhì)在水中的溶解能力。

2、沉淀溶解平衡的應(yīng)用

(1)沉淀的溶解與生成

根據(jù)濃度商Qc與溶度積Ksp的大小比較,規(guī)則如下:

Qc=Ksp時(shí),處于沉淀溶解平衡狀態(tài)。

Qc>Ksp時(shí),溶液中的離子結(jié)合為沉淀至平衡。

(2)沉淀的轉(zhuǎn)化

根據(jù)溶度積的大小,可以將溶度積大的沉淀可轉(zhuǎn)化為溶度積更小的沉淀,這叫做沉淀的轉(zhuǎn)化。沉淀轉(zhuǎn)化實(shí)質(zhì)為沉淀溶解平衡的移動(dòng)。

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